dfbf

Priestorový výstup 780 nm jednofrekvenčný laser

Priestorový výstup 780 nm jednofrekvenčný laser

Model:

Stručný opis:

Na splnenie požiadaviek atómovej fyziky a kvantovej fyziky založenej na atóme Rb skupina Erbium vyvinula vesmírny laser 780 nm s maximálnym výkonom 15 W pomocou techniky zdvojnásobenia frekvencie.Vďaka manipulácii, nízkemu driftu, antivibrácii a ďalšej vynikajúcej adaptabilite na životné prostredie bola EFA-SSHG-780nm použitá v laboratórnych experimentoch Rb atómového interferometra a bola frekvenčne stabilizovaná s nasýteným absorpčným spektrom niekoľko mesiacov.


  • f614effe
  • 6dac49b1
  • 46bbb79b
  • 374a78c3

Technický parameter

Štítky produktu

Vlastnosti produktu

█Šírka úzkej čiary <20 kHz (od 2 kHz)

█ Voliteľná nízka intenzita hluku (RIN<-130dBc/Hz@100kHz)

█ Vysoký výkon (15W)

█ Vynikajúca kvalita lúča (M² <1,1)

█ Stabilita výkonu (PP<1%@25℃,<2%@15-35℃)

█ Stabilita prostredia (15-35℃, 0,5Grms (0-200Hz))

█ Rbatom

█ Čarovná mriežka

Technické ukazovatele

Model

EFA-SSHG-780-X (Jeden výstup)

EFA-SSHG-780-XX (dvojkanálový výstup)

Stredná vlnová dĺžka¹

780,24 nm

Moc

15W

7W

2W

0,2 W

3W

400 mW

3W

400 mW

Frekvenčný rozdiel medzi dvoma kanálmi

 

0-1,2 GHz (laser s jedným zárodkom)

Šírka laserovej čiary

< 20 kHz

< 4 kHz (voliteľné)

Rozsah ladenia bez skokov v režime²

0,4 nm

Rozsah rýchleho ladenia²

10 GHz

Rýchle nastavenie šírky pásma²

>10 kHz

Stabilita frekvencie²

100 MHz pri 25 °C

Prevádzkové prostredie

Teplota: 15-35 ℃

Vibrácie: 0,5 grms (0~200Hz)

RMS integrácia relatívnej intenzity hluku (10Hz-10 MHz)

<0,2 %

Možnosť nízkej hlučnosti³

Hodnota integrácie RMS: <0,05 % (10 Hz – 10 MHz)

Kvalita lúča

TEMₒₒ, M² <1,1

Polarizácia

Lineárna polarizácia > 100:1

Chladenie

Chladenie vzduchom/vodné chladenie

Strata výkonu

<200 W

1 Môže byť prispôsobený na mieru;Vlastný rozsah 765-790 nm

2 V závislosti od výsevného lasera môže byť výsevný laser externý

3 Nízka hlučnosť je možné zvoliť pre nízku hlučnosť

Veľkosť konštrukcie

dtyfg1


  • Predchádzajúce:
  • Ďalšie: